반도체 및 SMT 부문을 포함한 전자 산업에서는 DAF, UF 및 LCD 생산과 같은 제조 공정 중에 기포가 형성될 수 있습니다. 압력(양수 및 음수)과 온도 매개변수를 정밀하게 제어함으로써 이러한 기포를 효과적으로 줄이거나 제거할 수 있습니다. 주요 특징 >98% 탈기율 | 대형 600mm 챔버 응용 다이 부착 경화 | 언더필 경화 | 웨이퍼 적층 등
MYS 시리즈 – MYW10 플라즈마 시스템 유연성이 뛰어나고 처리량이 높은 웨이퍼 표면 처리 공정 가능 전자 조립 및 반도체 시장의 급속한 성장으로 인해 생산 효율성과 신뢰성에 대한 업계 요구가 계속 높아지고 있습니다. MYS 시리즈 세척 장비는 기존 진공 기반 플라즈마 처리와 관련된 대기 시간을 제거함으로써 훨씬 더 높은 처리량과 향상된 전체 수율을 제공하는 동시에 모든 민감한 전자 부품의 안전한 취급을 보장합니다.