심천 CKD 기술 유한 회사
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MYW10
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MYW10

MYS 시리즈 – MYW10 플라즈마 시스템
유연성이 뛰어나고 처리량이 높은 웨이퍼 표면 처리 공정 가능
전자 조립 및 반도체 시장의 급속한 성장으로 인해 생산 효율성과 신뢰성에 대한 업계 요구가 계속 높아지고 있습니다. MYS 시리즈 세척 장비는 기존 진공 기반 플라즈마 처리와 관련된 대기 시간을 제거함으로써 훨씬 더 높은 처리량과 향상된 전체 수율을 제공하는 동시에 모든 민감한 전자 부품의 안전한 취급을 보장합니다.

CKD Technology는 새로운 기계를 즉시 사용할 수 있는 재고를 보유하고 있을 뿐만 아니라

우리는 또한 귀하의 초기 투자 비용을 크게 낮추면서 귀하의 특정 생산 요구 사항을 충족할 준비가 되어 있는 상세한 임대 사업을 보유하고 있습니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

CKD는 턴키 서비스를 제공할 준비가 되어 있는 전문 엔지니어 팀을 보유하고 있습니다.

중고 기계 거래에 대해서는 Whatspp 또는 이메일을 통해 문의하시기 바랍니다.

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제품특징

MYW10 플라즈마 시스템은 매우 유연하고 처리량이 높은 웨이퍼 표면 처리 공정을 제공합니다.

• 대기압 아르곤 플라즈마 시스템

• 100mm 폭의 인라인 플라즈마 배치 처리; 기존 방식에 비해 효율성은 2~5배 높고 운영 비용은 30% 이상 낮습니다.

• 100% 중성 플라즈마; 민감한 전자 부품에 안전하고 부드럽습니다. 플라즈마 충격, 정전기, 스파크, 아크, 먼지, 고열, 표면 잔물결 또는 UV 방사선이 없어 제품 손상이 전혀 발생하지 않습니다.

• 다양한 화학 공정: 유기 오염물질 제거를 위한 O2 공정; 금속 산화물 제거 및 제품 표면 활성화를 위한 H2 공정

• 파티클 오염이나 웨이퍼 표면 거칠기 변화가 발생하지 않습니다.

• 웨이퍼 및 테이프 프레임 생산 모두와 호환되므로 둘 사이를 빠르게 전환할 수 있습니다.

• 클래스 10 클린룸 및 SEMI 표준 충족

MYW10

명세서

기본 매개변수 MYW10
전력 요구 사항 AC 380V, 13kW, 20A, 50/60Hz
공기압 요구사항 90psi(6bar)
치수 2000x2800x2200mm
무게 2200kg
인증기준 세미 S2/S6/S8
포지셔닝 정확도 XY: ±20μm @ 3σ; Z: ±10μm @ 3σ
XYZ축 반복성 XY: ±10μm @ 3σ; Z: ±5μm @ 3σ
최대 속도 1000mm/초(XY)
가속 1.0g
드라이브 시스템 AC 서보
작업 플랫폼 사양
로딩/언로딩 방법 OHT + 로드 포트 + 로봇 팔
로봇 팔 페이로드 3kg
호환 가능한 웨이퍼 크기 12인치(300mm)
소프트웨어 운영 체제 윈도우 10
X/Y 여행 400mm / 500mm
Z축 이동 20mm
통신 프로토콜 SECS/보석
작동 범위
플라즈마 처리 면적(W×D) 300×300mm
처리 후 물 접촉각(WCA) WCA < 10°(실리콘 웨이퍼)
플라즈마 처리 방법 유기 오염물질 제거를 위한 O2 공정
금속산화물 제거를 위한 H2 공정
플라즈마 시스템 요구 사항
RF 전력 27.12MHz에서 600W
주요 플라즈마 가스 아르곤
공정가스 O2, N2 또는 H2
가스 공급 압력 범위 40~100psi(0.3~0.7MPa)






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