심천 CKD 기술 유한 회사
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MYS10
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MYS10

MYS 시리즈 – MYS10 플라즈마 시스템
광범위한 표면 처리 응용 분야를 쉽게 처리
전자 조립 및 반도체 시장의 급속한 성장으로 인해 생산 효율성과 신뢰성에 대한 업계 요구가 계속 높아지고 있습니다. MYS 시리즈 세척 시스템은 기존 진공 플라즈마 처리와 관련된 대기 시간을 제거함으로써 훨씬 더 높은 처리량과 향상된 전체 수율을 제공하는 동시에 모든 민감한 전자 부품의 안전한 취급을 보장합니다.

CKD Technology는 새로운 기계를 즉시 사용할 수 있는 재고를 보유하고 있을 뿐만 아니라

우리는 또한 귀하의 초기 투자 비용을 크게 낮추면서 귀하의 특정 생산 요구 사항을 충족할 준비가 되어 있는 상세한 임대 사업을 보유하고 있습니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

CKD는 턴키 서비스를 제공할 준비가 되어 있는 전문 엔지니어 팀을 보유하고 있습니다.

중고 기계 거래에 대해서는 Whatspp 또는 이메일을 통해 문의하시기 바랍니다.

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제품특징

MYS10 시리즈는 반도체, 전자, SMT, 광전자공학, 의료 기술 등의 분야에 사용하기 위해 개발된 완전 자동화된 인라인 플라즈마 처리 시스템입니다.

• 대기압 아르곤 플라즈마 시스템

• 폭 100mm의 인라인 배치 플라즈마 처리; 기존 방식에 비해 효율성은 2~5배 높고 운영 비용은 30% 이상 낮습니다.

• 100% 중성 플라즈마; 민감한 전자 부품에 안전하고 부드럽게 - 플라즈마 충격, 정전기, 스파크, 아크, 먼지, 고열, 표면 잔물결 또는 UV 방사선을 생성하지 않아 제품 손상이 전혀 발생하지 않습니다.

• 높은 유연성과 호환성을 제공하는 소형 플라즈마 플랫폼

• 다양한 화학 공정: 유기 오염물질 제거를 위한 O2 공정; 금속 산화물 제거 및 제품 표면 활성화를 위한 H2 공정

• 미립자 또는 액체 오염물질이 발생하지 않습니다.

MYS10

명세서

기본사양 MYS10
전력 요구 사항 AC 200~240V, 4.4kW, 20A, 50/60Hz
공기압 요구사항 90psi(6바)
치수 790x1200x1880mm
무게 800kg
인증기준 CE, 세미 S2
포지셔닝 정확도 XY: ±30μm @ 3σ; Z: ±10μm @ 3σ
XYZ 축 반복성 XY: ±15μm @ 3σ; Z: ±5μm @ 3σ
최대 속도 1000mm/초(XY)
가속 1.0g
드라이브 시스템 AC 서보
작업 플랫폼 사양
트랙 유형 벨트
레일 부하 용량 3kg
기판 두께 범위(캐리어 없음) 0.5~6mm
Z축 이동 100mm
최대. 구성요소 높이(상단) 26mm
최대. 구성요소 높이(하단) 23mm
통신 프로토콜 SMEMA
작업 범위
플라즈마 처리 면적(W×D) 350~475mm
플라즈마 처리 후 물 접촉각(WCA) WCA < 10°(실리콘 웨이퍼)
WCA < 20°(비금속)
플라즈마 처리 방법 유기 오염물질 제거를 위한 O2 공정
금속산화물 제거를 위한 H2 공정
플라즈마 시스템 요구 사항
RF 전력 27.12MHz에서 600W
주요 플라즈마 가스 아르곤
공정가스 O2, N2 또는 H2
가스 공급 압력 범위 40~100psi(0.3~0.7MPa)



핫 태그: MYS10 체인, MYS10 변속기 체인, MYS10 드라이브 체인
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