심천 CKD 기술 유한 회사
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MYS10iL
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MYS10iL

MYS 시리즈 – MYS10iL 플라즈마 시스템
대형 제품의 표면 처리를 쉽게 처리
전자 조립 및 반도체 시장의 급속한 성장으로 인해 생산 효율성과 신뢰성에 대한 업계 요구가 계속 높아지고 있습니다. 기존 진공 플라즈마 처리와 관련된 대기 시간을 제거함으로써 MYS 시리즈 세척 시스템은 훨씬 더 높은 처리량과 향상된 전체 수율을 제공하는 동시에 모든 민감한 전자 부품의 안전한 취급을 보장합니다.

CKD Technology는 새로운 기계를 즉시 사용할 수 있는 재고를 보유하고 있을 뿐만 아니라

우리는 또한 귀하의 초기 투자 비용을 크게 낮추면서 귀하의 특정 생산 요구 사항을 충족할 준비가 되어 있는 상세한 임대 사업을 보유하고 있습니다. 자세한 내용은 당사에 문의하세요.

CKD는 턴키 서비스를 제공할 준비가 되어 있는 전문 엔지니어 팀을 보유하고 있습니다.

중고 기계 거래에 대해서는 Whatspp 또는 이메일을 통해 문의하시기 바랍니다.

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제품특징

MYS10iL 시리즈는 반도체, 전자, SMT, 광전자공학, 의료 기술 등 다양한 분야의 응용 분야를 위해 개발된 완전 자동화된 인라인 플라즈마 처리 시스템입니다.


• 대기압 아르곤 플라즈마 시스템

• 폭 100mm의 인라인 배치 플라즈마 처리; 기존 방식에 비해 효율성은 2~5배 높고 운영 비용은 30% 이상 낮습니다.

• 100% 중성 플라즈마; 민감한 전자 부품에 안전하고 부드럽습니다. 플라즈마 충격, 정전기, 스파크, 아크, 먼지, 고온, 표면 잔물결 또는 UV 방사선이 없습니다.

• 다양한 화학 공정: 유기 오염물질 제거를 위한 O2 공정; 금속 산화물 제거 및 제품 표면 활성화를 위한 H2 공정

• 제품에 미립자 또는 액체 오염이 발생하지 않습니다.

MYS10iL

명세서

기본 매개변수 MYS10iL
전력 요구 사항 AC 200~240V, 4.5kW, 20A, 50/60Hz
공기압 요구사항 90psi(6bar)
치수 1000x1500x1550mm
무게 1050kg
인증 CE
포지셔닝 정확도 XY: ±50μm @ 3σ; Z: ±10μm @ 3σ
XYZ축 반복성 XY: ±25μm @ 3σ; Z: ±5μm @ 3σ
최대 속도 1000mm/초(XY)
가속 1.0g
드라이브 시스템 AC 서보
작업 플랫폼 매개변수
컨베이어 유형 벨트
컨베이어 부하 용량 3kg
PCB 두께 범위(캐리어 제외) 0.5~6mm
Z축 이동 60mm
최대. 구성 요소 높이(상단) 45mm
최대. 부품 높이(하단) 23mm
통신 프로토콜 SMEMA
작동 범위
플라즈마 처리 면적(W×D) 550~760mm
플라즈마 처리 후 물 접촉각(WCA) WCA < 10°(실리콘 웨이퍼)
WCA < 20°(비금속 재료)
플라즈마 처리 방법 유기 오염물질 제거를 위한 O2 공정
금속산화물 제거를 위한 H2 공정
플라즈마 시스템 장비 요구 사항
RF 전력 27.12MHz에서 600W
주요 플라즈마 가스 아르곤
공정가스 O2, N2 또는 H2
가스 공급 압력 범위 40~100psi(0.3~0.7MPa)







핫 태그: MYS10iL 센서, 산업용 센서 공급업체, 고정밀 센서
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